主要技術指標：
基片尺寸：1100×1300×0.5~1.1
生產節拍：30S/架
可完成膜系：
低溫ITO、金屬膜、氧化物膜 生產線特點：
低成本、高效率，30s節拍，機械手自動上下片，廣泛應用于TP、LCD、TFT、FPD、PDP等諸多行業。